展示内容：
本研究室では、プラズマレス・低温・大面積・高速薄膜形成が可能で、ガスの利用効率が高く環境負荷も小さい薄膜堆積法、「Cat-CVD法」を世界に先駆けて開発いたしました。そして、基礎的現象の解明はもとより、産業界への技術移転に向けて研究 開発を進めてまいりました。 この方法は、半導体素子やフラットパネルディスプレイの新規製造技術としてご注目いただいており、1998年からは、独立行政法人新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO技術開発機構）や独立行政法人科学技術振興機構（JST）などの公的支援も含め、民間企業を中心に多くの機関と共同で研究開発を進めています。今回は、薄膜トランジスタの代わりに微小シリコンチップを高速多手ロボットで画素位置に配置し大面積ディスプレイを製作するという、新規ディスプレイ製造技術（微小領域のアセンブリングを行う技術という意味で Micro-AssemblingTechnology ＝ MAT と特に呼んでいます）も併せてご紹介し、微小チップが画素間隔に従って配置された実験用小型基板を実際にご覧いただきます。さらに、ロールツーロール型低温Cat-CVD装置によりバリヤ膜が堆積されたフィルムを展示するほか、パネルやアニメーションで最近のCat-CVD技術の進展についてご紹介いたします。