展示内容：
半導体集積回路で、各国で開発競争が盛んな次世代技術として最重要なHigh-kゲート絶縁膜技術の開発を、"High-k Net"と名付けて産官学(半導体企業コンソーシアムとSelete、物材研究機構、宇宙研、筑波大、早大、広大、阪大、名大、金沢大)連携で進めている。試料作成、物性評価、計算物理等の専門家の専門知識を結集し、研究開発を効果的に進めている。国際電子デバイス会議、国際固体素子・材料コンファレンス、国際信頼性物理シンポジウムなど関連国際学会に、その成果を発表した。