展示テーマ：
ガスフロースパッタ法の開発と高活性光触媒酸化チタン膜の作製

展示内容：
ガスフロースパッタ法は、通常のスパッタ法より動作圧力が２桁高い（１００Ｐａ以上）雰囲気下でのスパッタ法であり、ＣＶＤと同様にソフトな成膜プロセスであるため、結晶性の良い薄膜を簡便に得ることができる。また、条件を制御することで平均粒径を数ｎｍから１００ｎｍの範囲の金属や酸化物のナノ粒子が作製できる。展示では、本技術の解説および本技術を活用した産学連携で実用化を狙う光触媒評価用のハンディーテスター及び同テスターに定量性を持たせるために必要となる可視光応答型酸化チタン薄膜の開発事例を紹介する。

GFS装置と作製された薄膜とナノ粒子

光触媒活性テスター