[出展者名]

物質・材料研究機構
川喜多　仁

[出展テーマ]

高速で形成するエレクトロニクス用導電材料

[展示概要]

本技術の特徴は、常温常圧下において、変形自由度の高い液体の中から、導電性の高い材料が高速で析出することであり、細長い孔や溝の中、広い面積の基材の上などに導電材料を高速で形成することができる。 現在、エレクトロニクス用導電材料は化学気相成長（CVD）やめっきといった技術により形成されているが、その速度は毎秒10 nm以下である。本技術は従来の10倍以上の速度で導電材料を形成できる点で新規性・優位性が高い。 本技術は次世代エレクトロニクス分野における三次元微細電気配線やフレキシブル電極への展開が期待できる。さらに、ペースト化によりプリンタブルエレクトロニクスへの応用可能性がある。