理化学研究所
藤川 茂紀
ナノコーティング技術をコアとする次世代型ナノファブリケーション
半導体デバイス製造における超微細加工技術は、超高精密な加工が可能であるが、作製コストが極めて高く、コスト低減が重大な問題となっている。またコスト問題から他産業への展開利用は事実上不可能であった。我々は独自開発した精密ナノコーティング技術をベースに、既存技術のサイズ精度を満たしつつも大幅なコスト低減を実現した。またこの新技術は従来技術では実現困難な立体構造も作製可能である。これにより、半導体デバイス産業以外においても、この超精密加工・低コスト技術をつかった新しいデバイス・システムが現実的に設計・開発可能となる。