展示内容：

多くの工業製品の中には、厚さ1000分の1 mmにも満たない薄膜が多用されており、その薄膜の特性が、製品の最終性能を決めている場合も少なくありません。「Cat-CVD法」は、300℃以下の低温で、従来技術では得られない高品質な薄膜を製作できる、北陸先端科学技術大学院大学で開発された新しい手法です。装置メーカーとの共同研究を通じて、この技術を用いた「量産用Cat-CVD装置」が開発され、その装置を用いて生産された高性能な半導体製品が世の中に出つつあります。ここでは、Cat-CVD法の原理を示す模型の展示と併せて、それらCat-CVD量産機またはその原型を写真にて公開致します。